Pat

J-GLOBAL ID：200903067577360017

チアジアゾール誘導体の製造方法

Inventor： 首藤 健志郎 ,  市川 秀二
Applicant, Patent owner： 日本油脂株式会社
Agent (1)： 酒井 一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994115295
Publication number (International publication number)：1995316143
Application date： May. 27, 1994
Publication date： Dec. 05, 1995
Summary：

【要約】【構成】式化1(R1=H,-CH3、R2=H,非重合性芳香族基、m,n=1〜4)の製造方法であって、式化2(M1=H,アルカリ金属、R3=H,-CH3、m=1〜4)又は式化3(M2=H,アルカリ金属、R5=H,非重合性芳香族基、n=1〜4)等を利用して製造するチアジアゾール誘導体の製造方法。【化1】【化2】【化3】【効果】本発明は、医薬品、染料等の中間体として有用なチアジアゾール誘導体を、簡便且つ高収率に得られる製造方法である。

Claim (excerpt)：

下記一般式化1(式中、R1は水素原子又はメチル基を示し、R2は水素原子又は非重合性芳香族基を示す。またm及びnは1〜4の整数を示す。)で表わされるスチレンチアジアゾール誘導体の製造方法であって、下記一般式化2(式中、M1は水素原子又はアルカリ金属を示し、R3は水素原子又はメチル基を示す。またmは1〜4の整数を示す。)で表わされるスチレンメルカプトチアジアゾール誘導体と、下記一般式化3(式中、Z1は脱離基を示し、R4は水素原子又は非重合性芳香族基を示す。またnは1〜4の整数を示す。)で表わされる脱離基含有化合物とを、アルカリ存在下、反応させることを特徴とするスチレンチアジアゾール誘導体の製造方法。【化1】【化2】【化3】

IPC (5)：

C07D285/125 ,  C07D417/12 333 ,  C07D417/12 ,  C07D285:00 ,  C07D333:28