Pat
J-GLOBAL ID：200903067596083180

ポリカーボネート積層体

Inventor：
成田 年幸

About 成田 年幸


Applicant, Patent owner：
ジーイー東芝シリコーン株式会社

About ジーイー東芝シリコーン株式会社


Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999097817
Publication number (International publication number)：2000289172
Application date： Apr. 05, 1999
Publication date： Oct. 17, 2000
Summary：
【要約】【課題】 干渉縞がなく、指紋除去性や耐摩耗性に優れたポリカーボネート積層体を提供する。【解決手段】 ポリカーボネート基材と、ポリカーボネート基材上に塗工された、表面処理シリカとアクリレートと光重合開始剤とを含むハードコート膜を具備するポリカーボネート積層体。
Claim (excerpt)：
ポリカーボネート基材と、前記ポリカーボネート基材上に塗工された、表面処理シリカとアクリレートと光重合開始剤とを含むハードコート膜を具備することを特徴とするポリカーボネート積層体。
IPC (4)：
B32B 27/36 102 ,  C09D 4/00 ,  G11B 7/24 531 ,  G11B 7/24 538
FI (4)：
B32B 27/36 102 ,  C09D 4/00 ,  G11B 7/24 531 C ,  G11B 7/24 538 J
F-Term (46)：
4F100AA20B ,  4F100AH06B ,  4F100AK25B ,  4F100AK45A ,  4F100AK52B ,  4F100AR00B ,  4F100BA02 ,  4F100CA23B ,  4F100CA30B ,  4F100EH462 ,  4F100EJ082 ,  4F100EJ542 ,  4F100GB90 ,  4F100JJ03 ,  4F100JK06 ,  4F100JK12B ,  4F100JK14 ,  4F100JL06 ,  4F100JN00 ,  4J038FA121 ,  4J038FA122 ,  4J038FA141 ,  4J038FA142 ,  4J038FA151 ,  4J038FA152 ,  4J038FA211 ,  4J038FA212 ,  4J038GA12 ,  4J038HA446 ,  4J038KA03 ,  4J038KA14 ,  4J038NA01 ,  4J038NA04 ,  4J038NA11 ,  4J038PA17 ,  4J038PB03 ,  4J038PC08 ,  5D029KA07 ,  5D029KB06 ,  5D029KB11 ,  5D029KC17 ,  5D029LA02 ,  5D029LA05 ,  5D029LB02 ,  5D029LC14 ,  5D029LC21
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM