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J-GLOBAL ID：200903067602023292
指紋センサ-装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉浦 正知
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998369246
Publication number (International publication number)：2000194825
Application date： Dec. 25, 1998
Publication date： Jul. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 センサーの感度を劣化させることなく、全般的に表面強度の向上を図ることができる容量型の指紋センサーを提供する。【解決手段】 指との静電容量を感知することにより指紋を採取する容量型の指紋センサーにおいて、センサー部に二次元アレイ状に設けられた検出電極11を覆う保護膜12の表面を平坦化処理する。平坦化処理は、レジストエッチバック、スピンオンガラスの塗布、化学機械研磨などを用いて行う。平坦化処理された保護膜12の表面の段差の高さは30nm以下とすることができる。検出電極11の厚さを0.3μm以下にしたり、その側面を緩やかな順テーパ形状としてもよい。
Claim (excerpt)：
指との静電容量を感知することにより指紋を採取する指紋センサー装置において、センサー部の保護膜の表面が平坦化処理されていることを特徴とする指紋センサー装置。
F-Term (1)：
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