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J-GLOBAL ID：200903067619879689

ガス浄化触媒及びガス浄化方法

Inventor： 久保 幸雄 ,  石川 勝也
Applicant, Patent owner： 川崎重工業株式会社
Agent (1)： 塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991359621
Publication number (International publication number)：1994015173
Application date： Dec. 30, 1991
Publication date： Jan. 25, 1994
Summary：

【要約】【構成】 シリカ、アルミナのうち少なくとも1種からなり、1〜50μ径の発泡状細孔を有する粒状多孔体、板状多孔体又は中空円筒状多孔体の細孔表面に、コバルト、ニッケル、バナジウム、チタンのうち少なくとも1種の金属の酸化物からなる活性成分を0.2〜30μの厚みに均一に担持させてなるガス浄化触媒及びこの触媒を用いるガス浄化方法。【効果】 集じんと脱硝、又は集じんと脱硝と脱硫とを同時に効率よく行なうことができ、また、捕集ダストの焼却処理を円滑に行なうことができる。さらに、捕集ダストの焼却熱により、使用済み脱硫成分の再生が同時に起こる。

Claim (excerpt)：

シリカ、アルミナのうち少なくとも1種からなり、1〜50μ径の発泡状細孔を有する粒状多孔体、板状多孔体又は中空円筒状多孔体の細孔表面に、コバルト、ニッケル、バナジウム、チタンからなる群より選ばれた金属の酸化物からなる活性成分を0.2〜30μの厚みに均一に担持させたことを特徴とするガス浄化触媒。

IPC (9)：

B01J 23/74 321 ,  B01D 39/06 ,  B01D 39/20 ,  B01D 53/36 ,  B01D 53/36 102 ,  B01D 53/36 104 ,  B01J 23/22 ,  B01J 23/89 ,  B01J 35/04 331