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J-GLOBAL ID：200903067658414839

荷電ビーム処理装置およびその方法

Inventor： 濱村 有一 ,  水村 通伸 ,  嶋瀬 朗 ,  東 淳三 ,  伊藤 文和
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994276243
Publication number (International publication number)：1996138617
Application date： Nov. 10, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】イオンビームの照射により生じた試料の帯電を除去するために中和用電子ビームを照射し、2次電子検出を行なう。また、この帯電による試料の絶縁破壊を回避する。【構成】イオンビーム2による試料7の帯電を、電子ビーム15により電気的に中和する。ここで、中和電子銃13の先端をノズル状にし、試料7の表面近くに設置する。これにより、ノズル先端から放出した電子ビーム15は引き込み電極10により引き込まれることなく試料7の面に到達させ、2次電子のみを引き込み電極10により引き込み、2次電子の検出を行なう。

Claim (excerpt)：

試料を搭載したステージを内設し、排気手段を有する試料室と、荷電ビーム源で発生した第一の荷電ビームを集束させ、前記試料に走査して前記試料を処理する荷電ビーム光学系と、前記荷電ビーム光学系を内設し、前記試料室に接続し、排気手段を有するビーム室と、前記第一の荷電ビームの照射の際に、前記試料より放出した二次電子ないし2次イオンを検出する荷電粒子検出器と、前記試料室内に設けたノズルを介して、前記第一のビームによる前記試料の帯電領域に前記第一のビームと電気的に反対の極性の第二の荷電ビームを供給する中和装置を備えたことを特徴とする荷電ビーム処理装置。

IPC (4)：

H01J 37/317 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/244 ,  H01J 37/305