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J-GLOBAL ID:200903067683670572

排気ガス浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 永田 良昭
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994151676
Publication number (International publication number):1995332073
Application date: Jun. 08, 1994
Publication date: Dec. 19, 1995
Summary:
【要約】【目的】排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤に対して、アロマ分浄化効果の高いPd(パラジウム)を成分に有する三元触媒を所定間隔を隔てて近接配置することで、冷間時に排出された未燃HCをHC吸着剤で一旦吸着させ、HC吸着剤の温度上昇によりHC吸着剤から放出された未燃HCを上述のPdを成分に有する三元触媒で燃焼浄化させ、特に排気ガス中の成分の約半分を占めるアロマ分を良好に浄化することができ、またHC吸着剤とPdを成分に有する三元触媒を所定間隔を隔てて近接配置することで、高温条件下におけるHC吸着剤と三元触媒との間の反応を防止して、両者(HC吸着剤および三元触媒)の耐熱性向上を図る。【構成】エンジンの排気系に介設される排気ガス浄化装置であって、排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤10に対して、少なくともPdを成分に有する三元触媒11が所定間隔を隔てて近接配置されたことを特徴とする。
Claim (excerpt):
エンジンの排気系に介設される排気ガス浄化装置であって、排気ガス中のHCを吸着するHC吸着剤に対して、少なくともPdを成分に有する三元触媒が所定間隔を隔てて近接配置された排気ガス浄化装置。
IPC (5):
F01N 3/24 ZAB ,  B01D 53/04 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ZAB
FI (2):
B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 103 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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