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J-GLOBAL ID：200903067690078964

堆積膜形成方法

Inventor： 鈴木 伸昌
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995198000
Publication number (International publication number)：1997027490
Application date： Jul. 10, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】本発明は、無機シランと有機シランとを用い、無機シランによる良質膜形成と有機シランによる平坦化膜形成とを機能分離させることにより、優れた段差被覆性の堆積膜を形成する堆積膜形成方法を提供することを目的とするものである。【構成】本発明は上記目的を達成するために、真空気密可能な反応容器内に、H、O、N、F、Cl、Br、He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn以外の原子を含まない第一の気体と前記した原子以外の原子を含む第二の気体とを導入し、プラズマの励起により反応させて反応中間体を生成し、前記反応容器内に配された基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、前記第二の気体として無機シランと有機シランとを用い無機シランによる堆積膜と有機シランによる堆積膜とを積層して堆積膜の形成を行うことを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

真空気密可能な反応容器内に、H、O、N、F、Cl、Br、He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn以外の原子を含まない第一の気体と前記した原子以外の原子を含む第二の気体とを導入し、プラズマの励起により反応させて反応中間体を生成し、前記反応容器内に配された基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、前記第二の気体として無機シランと有機シランとを用い無機シランによる堆積膜と有機シランによる堆積膜とを積層して堆積膜の形成を行うことを特徴とする堆積膜形成方法。

IPC (7)：

H01L 21/316 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 105 ,  G03G 5/085 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31

FI (7)：

H01L 21/316 X ,  C23C 16/44 D ,  C23C 16/50 ,  G03G 5/08 105 ,  G03G 5/085 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C