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J-GLOBAL ID：200903067709853913
微細な低シリカフォージャサイト型ゼオライトおよびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998164374
Publication number (International publication number)：1999343112
Application date： May. 29, 1998
Publication date： Dec. 14, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】高純度で微細な低シリカフォージャサイト型ゼオライト(LSX)を大規模で短時間に製造する方法を提供する。【解決手段】X線回折法においてフォージャサイト単相であり、SiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1であり、Na型のときの水分吸着量が35.0%以上であり、一次粒子径が0.05μm以上1.0μm未満であるLSX、及び、アルミネートを含む溶液とシリケートを含む溶液を混合し、ゲル化後、熟成、結晶化を行ってSiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1のLSXの製造法において、ゲル化後及び/又は熟成の初期に、あらかじめ10°C以上60°C以下の温度で10分以上3時間以下の時間範囲内で熟成を行った10〜20Na2O・Al2O3・5〜20SiO2・100〜250H2Oの組成を有する溶液を、生成するLSXに対しAl2O3基準で0.03%以上10%以下加えることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
X線回折法においてフォージャサイト単相であり、SiO2/Al2O3モル比が1.9〜2.1であり、Na型としたときの水分吸着量が35.0%以上であり、かつ、一次粒子径が0.05μm以上1.0μm未満であることを特徴とする高純度で微細な低シリカフォージャサイト型ゼオライト。
IPC (3)：
C01B 39/20
, B01D 53/02
, B01J 20/18
C01B 39/20
, B01D 53/02 Z
, B01J 20/18 D
Cited by examiner (8)
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