Pat

J-GLOBAL ID：200903067722688980

水処理システム

Inventor： 田村 敏裕 ,  谷本 好広 ,  藤本 恵一 ,  吉田 潤
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 紋田 誠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999242757
Publication number (International publication number)：2001062475
Application date： Aug. 30, 1999
Publication date： Mar. 13, 2001
Summary：

【要約】【課題】 水処理システムの安定性向上、高性能化、低コスト化、維持費の低減、小型化等を図ることができ、さらにシステム動作の自由度の向上をシステム構成部品を増やすことなく実現する。【解決手段】 複数の処理槽(10,40,50)と、各処理槽における処理や各処理槽間の移送等の各用途に用いられる空気を供給する空気供給手段(60)と、これより送られてくる空気が流入する1つの空気流入口H0に対して同時に連通可能な2つ以上の空気流出口H5,H6を含む切換制御可能な複数の空気流出口H1〜H6を各用途毎に配設した空気流路切換手段(70)と、その各空気流出口と各処理槽とを連通する配管と、前記空気流路切換手段を予め定められるタイミングで制御して各用途毎に必要な空気を供給する制御手段とを備えた。

Claim (excerpt)：

被処理水に各種処理を施す複数の処理槽と、前記各処理槽における処理や各処理槽間の移送等の各用途に用いられる空気を供給する空気供給手段と、前記空気供給手段から送られてくる空気が流入する1つの空気流入口に対して同時に連通可能な2つ以上の空気流出口を含む切換制御可能な複数の空気流出口を各用途毎に配設した空気流路切換手段と、該空気流路切換手段の各空気流出口と各処理槽とを連通する配管と、前記空気流路切換手段を予め定められるタイミングで制御して各用途毎に必要な空気を供給する制御手段とを備えたことを特徴とする水処理システム。

IPC (4)：

C02F 3/00 ZAB ,  B65G 53/66 ,  C02F 3/20 ,  F16K 11/072

FI (4)：

C02F 3/00 ZAB E ,  B65G 53/66 Z ,  C02F 3/20 Z ,  F16K 11/072 Z

F-Term (11)：

3F047BA08 ,  3H067AA13 ,  3H067AA23 ,  3H067CC60 ,  3H067DD03 ,  3H067DD32 ,  3H067DD42 ,  4D027AA03 ,  4D027AA16 ,  4D029AA01 ,  4D029AB05