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J-GLOBAL ID：200903067733088276

量子細線及びその製造方法

Inventor： 和田 恭雄 ,  近藤 誠一 ,  久▲禮▼ 得男 ,  宇田 毅 ,  市口 恒雄 ,  岡崎 信次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992208790
Publication number (International publication number)：1994061506
Application date： Aug. 05, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 超高速信号伝達特性を持たせた量子細線の製造方法の提案。【構成】 基板上の絶縁膜に十分に小さい寸法の溝を形成し、原子或いは分子を基板上及び溝内に供給し、該原子或いは分子を供給中或いは供給後に該原子或いは分子が移動するに十分な温度に加熱し、上記溝の角部に量子細線を形成させる。【効果】 本発明による量子細線をによれば、従来のトランジスタのスイッチング作用を用いた回路と比較して高速な動作を可能にするため、超高性能な計算機等の情報処理装置を実現可能である。

Claim (excerpt)：

原子を互いの電子が相互作用を持つようにランダムに集積して形成した量子細線。

IPC (2)：

H01L 29/804 ,  H01L 21/20