ガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法及び制御装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：熊谷隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001306369
Publication number (International publication number)：2003113382
Application date： Oct. 02, 2001
Publication date： Apr. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】原料として廃棄物を用いる場合であっても、容易に安定した運転が行なえるガス化プラント用流動床ガス化炉の自動制御方法及び装置を提供すること。【解決手段】原料を流動床において熱分解する流動床ガス化炉4と、流動床ガス化炉4から送出される熱分解ガスを高温でガス改質して製品ガスとする高温ガス化炉7とを具備するガス化プラント用流動床ガス化炉である。本プロセスで合成される製品ガスの流量が予め設定した設定流量になるように流動床ガス化炉4に投入する原料の量を制御する原料供給量制御工程と、原料が流動床において熱分解ガス化されるに必要な炉床温度を設定し流動床ガス化炉4に供給する炉床吹込み酸素流量を設定した炉床温度になるように制御する炉床温度制御工程と、を具備することで本プロセスで合成される製品ガスの流量を予め設定した設定流量に制御する。

Claim (excerpt)：

原料を流動床において熱分解する流動床ガス化炉と、流動床ガス化炉から送出される熱分解ガスを高温でガス改質して製品ガスとする高温ガス化炉とを具備するガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法において、本プロセスで合成される製品ガスの流量が予め設定した設定流量になるように、流動床ガス化炉に投入する原料の量を制御する原料供給量制御工程と、原料が流動床においてガス化されるに必要な炉床温度を設定し、流動床ガス化炉に供給する炉床吹込み酸素流量を前記設定した炉床温度になるように制御する炉床温度制御工程と、を具備することで前記プロセスで合成される製品ガスの流量を予め設定した設定流量にすることを特徴とするガス化プラント用流動床ガス化炉の制御方法。

IPC (5)：

C10J 3/00 , B01J 8/24 , C10J 3/54 , F23C 10/28 , F23G 5/30 ZAB

FI (8)：

C10J 3/00 K , B01J 8/24 , C10J 3/54 E , C10J 3/54 F , C10J 3/54 H , C10J 3/54 L , F23G 5/30 ZAB P , F23C 11/02 305

F-Term (21)：

3K064AA08 , 3K064AA14 , 3K064AA15 , 3K064AB03 , 3K064AC07 , 3K064AC12 , 3K064AC13 , 3K064AC15 , 3K064AC16 , 3K064AD01 , 3K064AD08 , 3K064AE01 , 3K064BA07 , 3K064BA21 , 4G070AA01 , 4G070AB06 , 4G070BB32 , 4G070CB19 , 4G070CC03 , 4G070CC06 , 4G070DA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

廃棄物の二段ガス化システムの運転制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-066632 Applicant：株式会社荏原製作所, 宇部興産株式会社
石炭ガス化複合発電システムの運転制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-096598 Applicant：財団法人電力中央研究所
特開平3-011106

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