表面放出ガスサンプリング装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：特許業務法人岡田国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005347740
Publication number (International publication number)：2007155385
Application date： Dec. 01, 2005
Publication date： Jun. 21, 2007
Summary：

【課題】表面放出ガスの放出を阻害させず、かつ表面放出ガスのサンプリング結果について従来よりも精度を高められるようにする。【解決手段】少なくとも物体の表面の一部を覆うかまたは内部に入れた状態で容器内外のガスが流出入しないように出入口部で密着する保持部材(バッグ固定部48)を備えた貯留用容器(サンプリングバッグ34)と、保持部材による密着の圧力を検出する圧力センサ46と、当該密着の圧力を制御する圧力制御手段(プログラマブルコントローラ12)と、クリーンガスを貯留用容器に通気して残留ガスを追い出して洗浄するガス洗浄手段(12)と、残留ガスを追い出してから所定期間内に表面から放出された表面放出ガスを貯留用容器で貯留するガス貯留手段(12)と、所定期間を経過した後に貯留用容器から保存用容器(保存バッグ52)に表面放出ガスを導出するガス導出手段(12)とを有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

物体の表面から放出された表面放出ガスを保存用容器に保存するための表面放出ガスサンプリング装置であって、少なくとも物体の表面の一部を覆うかまたは内部に入れることができ、当該覆った状態または入れた状態で容器内外のガスが流出入しないように出入口部で密着する保持部材を備えた貯留用容器と、前記保持部材による密着の圧力を検出する圧力センサと、前記圧力センサで検出した圧力が所定範囲内になるように、密着の圧力を制御する圧力制御手段と、前記表面放出ガスと反応しないクリーンガスを前記貯留用容器に通気し、残留ガスを追い出して洗浄するガス洗浄手段と、前記残留ガスを追い出してから所定期間内に物体の表面から放出された表面放出ガスを前記貯留用容器で貯留するガス貯留手段と、前記所定期間を経過した後、前記貯留用容器から前記保存用容器に表面放出ガスを導出するガス導出手段とを有する表面放出ガスサンプリング装置。

IPC (1)：

G01N 1/22

FI (1)：

G01N1/22 C

F-Term (30)：

2G045CB09 , 2G045DA80 , 2G052AA28 , 2G052AA37 , 2G052AB12 , 2G052AB22 , 2G052AB27 , 2G052AC12 , 2G052AD13 , 2G052AD22 , 2G052AD42 , 2G052BA14 , 2G052CA02 , 2G052CA12 , 2G052DA13 , 2G052DA14 , 2G052DA22 , 2G052FC04 , 2G052FC11 , 2G052GA23 , 2G052GA27 , 2G052HA02 , 2G052JA04 , 2G052JA09 , 2G052JA11 , 4C117XA01 , 4C117XB01 , 4C117XC11 , 4C117XD05 , 4C117XE03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

皮膚透過ガス収集装置及び皮膚透過ガス測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-396949 Applicant：科学技術振興事業団

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