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J-GLOBAL ID:200903067743938979

酸化物粉末とその製造方法及び触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003377099
Publication number (International publication number):2005139029
Application date: Nov. 06, 2003
Publication date: Jun. 02, 2005
Summary:
【課題】細孔分布を細かく制御可能とするとともに、細孔径をさらに微細とし細孔容積をさらに増大させる。【解決手段】少なくともセリウムを含む化合物が溶解した水溶液から共沈させ、沈殿物及び界面活性剤を含む懸濁液を撹拌した後に焼成する製造方法であって、撹拌工程では、得られる酸化物粉末の重量が溶媒に対して1〜30%となるように懸濁液を調製する、剪断速度が 103〜 104/秒となる条件で撹拌する、の少なくとも一方の制御を行う。 剪断効率が高いため、中心細孔径が20nm以下、30nm以下の細孔容積が 0.1cc/g以上の細孔分布を形成することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
セリウム酸化物を主成分とし、中心細孔径が20nm以下、30nm以下の細孔容積が 0.1cc/g以上の細孔分布をもつことを特徴とする酸化物粉末。
IPC (4):
C01F17/00 ,  B01D53/94 ,  B01J23/63 ,  C01G25/00
FI (5):
C01F17/00 B ,  C01G25/00 ,  B01D53/36 104A ,  B01D53/36 102H ,  B01J23/56 301A
F-Term (77):
4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048AB07 ,  4D048BA08X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA42X ,  4D048BB01 ,  4D048EA04 ,  4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC08 ,  4G048AD03 ,  4G048AE07 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA09 ,  4G069CC17 ,  4G069EA02Y ,  4G069FA01 ,  4G069FB06 ,  4G069FB09 ,  4G069FB27 ,  4G069FB80 ,  4G069FC08 ,  4G076AA02 ,  4G076AA18 ,  4G076AB07 ,  4G076BA26 ,  4G076BA42 ,  4G076BB08 ,  4G076BC02 ,  4G076BC08 ,  4G076CA02 ,  4G076CA28 ,  4G076DA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA07 ,  4G169CA08 ,  4G169CA09 ,  4G169CC17 ,  4G169EA02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB06 ,  4G169FB09 ,  4G169FB27 ,  4G169FB80 ,  4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (10)
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