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J-GLOBAL ID：200903067767083788

基板処理装置

Inventor： 木村 義弘
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 間宮 武雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998264564
Publication number (International publication number)：2000100893
Application date： Sep. 18, 1998
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 基板搬送ロボットにより基板を処理槽間で搬送する際に、基板表面の酸化を抑え、基板表面において酸化状態に差を生じたり酸化物のしみが生成されたりすることを防止できる装置を提供する。【手段】 処理槽10の上方に高さ位置を固定して遮蔽ボックス32を設け、遮蔽ボックスを、下面が開放されるとともにチャック部14に保持されて上下方向へ往復移動するウエハWを完全に収納する大きさの筐体状に形成し、遮蔽ボックスをウエハ搬送ロボット12と共に水平方向へ移動させるようにし、遮蔽ボックスの内部へ窒素ガスを供給して遮蔽ボックスの内部空間を窒素ガスで満たすガス供給手段を設けた。

Claim (excerpt)：

処理液を収容し、その処理液中に基板が浸漬させられて基板の処理が行われる処理槽と、基板を保持する基板保持部、ならびに、この基板保持部を上下方向へ往復移動させて前記処理槽内の処理液中に基板を浸漬させおよび処理液中から基板を引き上げるための昇降機構を有し、水平方向へ移動して基板の搬送を行う基板搬送ロボットと、を備えた基板処理装置において、前記処理槽の上方に高さ位置を固定して配置され、下面が開放されるとともに前記基板保持部に保持されて前記処理槽内の処理液中から引き上げられた基板を完全に収納する大きさの筐体状に形成され、前記基板搬送ロボットと共に水平方向へ移動する遮蔽ボックスを設け、その遮蔽ボックスの内部へ不活性ガスを供給して遮蔽ボックスの内部空間を不活性ガスで満たすガス供給手段を具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/04 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/306

FI (4)：

H01L 21/68 A ,  B08B 3/04 A ,  H01L 21/304 648 C ,  H01L 21/306 J

F-Term (22)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CB15 ,  3B201CD11 ,  5F031BB01 ,  5F031BB04 ,  5F031BC02 ,  5F031BC03 ,  5F031CC12 ,  5F031CC61 ,  5F031KK02 ,  5F031KK06 ,  5F031LL03 ,  5F043DD30 ,  5F043EE35 ,  5F043EE36 ,  5F043EE40 ,  5F043GG10