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J-GLOBAL ID：200903067771545893

投影露光装置

Inventor： 笹谷 俊博 ,  遠藤 一正 ,  牛田 一雄
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993323721
Publication number (International publication number)：1995183190
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】個々の部品の精度や組立の精度を非常に厳しく抑えることなしに、投影光学系内に残存する投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を調整可能としながら、耐久性、再現性に優れた高性能な投影露光装置の提供にある。【構成】本発明は、第1物体を照明する照明光学系と、該照明光学系によって照明された前記第1物体の像を所定の縮小倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記第1物体と前記第2物体との間に、前記投影光学系の光軸に対して回転非対称なパワーを持つ光学手段を配置し、前記光学手段は、前記投影光学系に残存する前記投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を補正するために、前記投影光学系の光軸を中心に回転可能または前記投影光学系の光軸に沿って移動可能に設けられる構成としたものである。

Claim (excerpt)：

第1物体を照明する照明光学系と、該照明光学系によって照明された前記第1物体の像を所定の倍率のもとで第2物体に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記第1物体と前記第2物体との間に、前記投影光学系の光軸に対して回転非対称なパワーを持つ光学手段を配置し、前記光学手段は、前記投影光学系に残存する前記投影光学系の光軸に対して回転非対称な光学特性を補正するために、前記投影光学系の光軸を中心に回転可能または前記投影光学系の光軸に沿って移動可能に設けられることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 527