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J-GLOBAL ID：200903067800201287

オキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法

Inventor： 麻生 貴之 ,  尾崎 勝 ,  小名 功
Applicant, Patent owner： 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995276243
Publication number (International publication number)：1997095536
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【目的】 残存する未反応の原料を著しく減少させたオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法、特にウレタン樹脂の改質剤として有用なオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法を提供する。【構成】 ケイ素原子結合水素原子含有ポリオルガノシロキサンに、一般式:CH2=CH-R1-O(C2H4O)m(C3H6O)nH{式中、R1は2価炭化水素基であり、mは0〜3であり、nは0〜3である。ただし(m+n)は1〜3である。}で示されるオキシアルキレン基含有有機化合物を付加反応用触媒の存在下で付加反応させた後、温度100〜160°C,圧力0.1〜100mmHgの条件下でストリッピングを行い、残存する未反応のオキシアルキレン基含有有機化合物の含有量を1,000ppm(重量単位)以下にすることを特徴とするオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式:【化1】(式中、Rは一価炭化水素基であり、Qは一価炭化水素基または水素原子であり、xは1〜500であり、yは0〜30である。ただしyが0の場合にはQの少なくとも一つは水素原子である。)で示されるケイ素原子結合水素原子含有ポリオルガノシロキサンに、一般式:CH2=CH-R1-O(C2H4O)m(C3H6O)nH{式中、R1は2価炭化水素基であり、mは0〜3であり、nは0〜3である。ただし(m+n)は1〜3である。}で示されるオキシアルキレン基含有有機化合物を付加反応用触媒の存在下で付加反応させた後、温度100〜160°C,圧力0.1〜100mmHgの条件下でストリッピングを行い、残存する未反応のオキシアルキレン基含有有機化合物の含有量を1,000ppm(重量単位)以下にすることを特徴とするオキシアルキレン基含有ポリオルガノシロキサンの製造方法。

IPC (4)：

C08G 77/46 NUL ,  C08F283/12 MQV ,  C08G 77/12 NUG ,  C08G 18/61 NEM

FI (4)：

C08G 77/46 NUL ,  C08F283/12 MQV ,  C08G 77/12 NUG ,  C08G 18/61 NEM

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-206834
  
• 特開平3-047190
  
• 特開平4-239028