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J-GLOBAL ID：200903067801528565

溶射皮膜形成方法

Inventor： 沢 雅明 ,  大堀 潤二 ,  佐藤 信治 ,  瀬尾 和範
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 矢葺 知之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992020282
Publication number (International publication number)：1993214505
Application date： Feb. 05, 1992
Publication date： Aug. 24, 1993
Summary：

【要約】【目的】 溶射皮膜欠陥の一つであるスピッティング(未溶融粒子、溶射ガン付着粒子等の溶射皮膜内への巻き込み)欠陥を防止し、溶射品質安定化並びに廉価な溶射方法を提供するものである。【構成】 溶射と同時に、Ra 1μmからRa 15μmの範囲で表面加工を施し、皮膜積層することを特徴とした皮膜欠陥のない溶射皮膜形成方法。

Claim (excerpt)：

溶射と同時に、Ra 1μmからRa 15μmの範囲で表面加工を施し、皮膜積層することを特徴とした皮膜欠陥のない溶射皮膜形成方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭58-003965
  
• 特開昭62-047470