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J-GLOBAL ID：200903067845130011
ガス拡散電極の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077462
Publication number (International publication number)：1999269689
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 製造工程が簡素化され、生産性が高く、かつ高い酸素還元性能を有するガス拡散電極の反応層を製造できるガス拡散電極の製造方法を提供する。【解決手段】 ガス拡散電極の製造方法において、反応層原料及び/又はガス供給層原料をそれぞれ水溶液に分散し、これらの分散液に自己組織化剤を混合し、自己組織化される前の分散液をスプレーして、塗膜化することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。一次粒径0.5ミクロン以下の疎水性カーボンブラック微粒子、親水性カーボンブラック微粒子、界面活性剤や、一次粒径0.5ミクロン以下のPTFEディスパージョンとの分散液を用いる。
Claim (excerpt)：
ガス拡散電極の製造方法において、反応層原料及び/又はガス供給層原料をそれぞれ水溶液に分散し、これらの分散液に自己組織化剤を混合し、その混合液をスプレーして、塗膜化することを特徴とするガス拡散電極の製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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