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J-GLOBAL ID：200903067847154619

高周波加熱装置

Inventor：
信江 等隆

About 信江 等隆

, 
福本 明美

About 福本 明美

, 
阿波根 明

About 阿波根 明


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998192535
Publication number (International publication number)：2000030855
Application date： Jul. 08, 1998
Publication date： Jan. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 本発明はマイクロ波空間に生じるマイクロ波分布を故意に可変制御し、被加熱物の加熱の均一化を促進する高周波加熱装置を提供するものである。【解決手段】 マイクロ波空間10を形成する左側側面12に形成した開孔部16と、開孔部16に接続された溝部18と、溝部18内に設けたインピーダンス可変手段20と、インピーダンス可変手段の幅広面20aの溝部18の深さ方向に対する配設位置を判定する支持角度判定手段25と、マイクロ波検出手段27、28とを備え、マイクロ波検出手段の信号に基づいてインピーダンス可変手段を回転制御し開孔部のインピーダンスを可変してマイクロ波空間でのマイクロ波分布を変化させて被加熱物の加熱の均一化を図る。
Claim (excerpt)：
被加熱物を収納するとともに給電されたマイクロ波を実質的に閉じ込めるマイクロ波空間と、前記マイクロ波空間を形成する金属壁面に生じる高周波電流の流れを分断するように設けた開孔部と、前記開孔部に接続され終端が閉じられた溝部と、前記溝部内に設け前記開孔部におけるインピーダンスを変えるインピーダンス可変手段と、前記溝部内のマイクロ波強度を検出するマイクロ波検出手段と、前記マイクロ波検出手段の検出信号に基づいて前記インピーダンス可変手段を制御する制御部とを備えた高周波加熱装置。
IPC (2)：
H05B 6/74 ,  H05B 6/70
FI (2)：
H05B 6/74 F ,  H05B 6/70 E
F-Term (11)：
3K090AA01 ,  3K090AB01 ,  3K090BA01 ,  3K090BB15 ,  3K090CA01 ,  3K090CA21 ,  3K090DA01 ,  3K090DA18 ,  3K090EA01 ,  3K090EB13 ,  3K090EB14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
  • 電子レンジ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-012321   Applicant：株式会社東芝
  • 電子レンジのマイクロ波電界検出装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-018773   Applicant：シャープ株式会社
  • 電子レンジ
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-010067   Applicant：シャープ株式会社
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