Pat

J-GLOBAL ID：200903067864233816

微細加工用レジスト組成物

Inventor： 新 祐治 ,  赤岩 俊行 ,  鈴木 祥生
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992053671
Publication number (International publication number)：1993257282
Application date： Mar. 12, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【構成】この発明は、分子構造中にフェノール性の水酸基を含み、かつアルカリ水溶液に可溶性のポリマーと(2)芳香族環に下記の原子団【化1】(ここにR1 、R2 は水素原子または炭素数1〜4個の炭化水素基、R3 、R4は水素原子または炭素数1〜10個の炭化水素基を表わす)が結合した化学構造を分子構造中に含む化合物またはその有機酸もしくは無機酸との塩とから成る微細加工用レジスト組成物である。【効果】この発明によれば、感度および解像度特性が高く、乾式エッチングに優れた耐性をもち、露光後ベーキング工程が不要で、プロセス寛容度が大きいレジスト組成物を得ることができる。

Claim (excerpt)：

(1)分子構造中にフェノール性の水酸基を含み、かつアルカリ水溶液に可溶性のポリマーと(2)芳香族環に下記の原子団【化1】(ここにR1 、R2 は水素原子または炭素数1〜4個の炭化水素基、R3 、R4は水素原子または炭素数1〜10個の炭化水素基を表わす)が結合した化学構造を分子構造中に含む化合物またはその有機酸もしくは無機酸との塩とから成る微細加工用レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-036742
  
• 特開昭64-088541