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J-GLOBAL ID：200903067869642560

溶融塩電解精製法

Inventor： 田中 博 ,  中村 等 ,  東海林 裕一 ,  松丸 健一
Applicant, Patent owner： 財団法人電力中央研究所 ,  株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993065006
Publication number (International publication number)：1994273578
Application date： Mar. 24, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 溶融塩中の被回収体であるウランの濃度を一様に保ち、固体陰極表面にほぼ均一に微細なデンドライトを析出させることによって電気的短絡を防止し、ウランの回収効率も向上する溶融塩電解精製法の提供を目的とする。【構成】 使用済み核燃料中の少なくともウランを溶解し含有する溶融カドミウム相2および溶融塩相3のうち、溶融塩相3中に浸漬した固体陰極6面にウラン/プルトニウムをデントライト状に電解析出させて再処理する溶融塩電解精製法において、前記溶融塩相3中の少なくともウラン濃度を 0.5〜20 wt%に選択・設定し、かつ溶融塩相をレイノルズ数で 2.5×102 〜 1×104 に設定された撹拌動力で撹拌しながら、固体陰極表面に結晶核をほぼ均一に発生させ、核燃料成分をデンドライトを成長させることを特徴とするものである。

Claim (excerpt)：

使用済み核燃料中の少なくともウランを溶解し含有する溶融カドミウム相および溶融塩相のうち、溶融塩相中に浸漬した固体陰極面に少なくともウランをデントライト状に電解析出させて再処理する溶融塩電解精製法において、前記溶融塩相中のウランの濃度を 0.5〜20wt% に設定し、かつ少なくとも溶融塩相をレイノルズ数で 2.5×102 〜 1×104 に設定された撹拌動力で撹拌しながら、固体陰極表面に結晶核をほぼ均一に発生させ、デンドライトを成長させることを特徴とする溶融塩電解精製法。

IPC (2)：

G21C 19/44 ,  C25C 3/00