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J-GLOBAL ID：200903067907194836
X線マスクブランク及びその製造方法並びにX線マスクの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998034353
Publication number (International publication number)：1999219899
Application date： Jan. 30, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：
【要約】【課題】 低応力かつ面内の応力が均一であるスパッタ膜を得ることができ、したがって、極めて高い位置精度を有するX線マスクを製造できるX線マスクブランクの製造方法等を提供する。【解決手段】 基板上に少なくともX線吸収体膜を含むスパッタ膜を形成する工程を有するX線マスクブランクの製造方法であって、前記スパッタ膜を形成する工程において、スパッタ膜が形成される基板の基板温度を測定すると同時に基板温度を調整しながらスパッタ成膜を行い、X線マスクブランクを製造する。スパッタ中の基板温度の測定は、例えば基板30の裏面側に設置した蛍光体センサー21によって行う。
Claim (excerpt)：
基板上に少なくともX線吸収体膜を含むスパッタ膜を形成する工程を有するX線マスクブランクの製造方法であって、前記スパッタ膜を形成する工程において、スパッタ膜が形成される基板の基板温度を測定しながらスパッタ成膜を行うことを特徴とするX線マスクブランクの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
