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J-GLOBAL ID：200903067958320259

化粧料

Inventor：
森戸 由美子

About 森戸 由美子


Applicant, Patent owner：
株式会社コーセー

About 株式会社コーセー


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996356140
Publication number (International publication number)：1998182409
Application date： Dec. 25, 1996
Publication date： Jul. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】 優れた肌荒れ改善効果及び保湿効果を有する化粧料を提供する。【解決手段】 次の成分(A)及び(B)(A)トリメチルグリシン(B)ホエイを含有する化粧料。
Claim (excerpt)：
次の成分(A)及び(B)(A)トリメチルグリシン(B)ホエイを含有することを特徴とする化粧料。
IPC (4)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50
FI (6)：
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
  • 乳化型化粧品
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-082091   Applicant：旭化成工業株式会社
  • 特開平1-254610
  • 皮膚化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-222193   Applicant：株式会社桃谷順天館, 明治乳業株式会社
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