投影露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992191766
Publication number (International publication number)：1994036991
Application date： Jul. 20, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】ショット領域内の所望部分に対して常に最適なフォーカスをかける。【構成】露光時にフォーカスセンサーが検出するウェハ上の部分と、ショット領域内の所望部分との間で、フォーカス方向の偏差を求め、その偏差分だけフォーカスセンサーにオフセットを加える。

Claim (excerpt)：

マスクのパターンを感光基板へ投影露光するための投影光学系と、前記感光基板を保持して前記投影光学系の光軸と垂直な面内で水平移動するとともに、前記光軸の方向に垂直移動するステージと、前記投影光学系の視野内の予め定められた測定点で、前記投影光学系の最良像面とほぼ一致して設定された基準面に対する前記感光基板の表面の前記光軸方向の位置ずれ量を検出する表面位置検出手段と、焦点合わせの際に該位置ずれ量が所定の値以下になるように前記ステージを垂直移動させる合焦制御手段を備えた装置において、前記パターンの投影像によって露光される前記感光基板上の複数の局所領域のうち、特定のn個の局所領域のほぼ中央のn個の第1位置と、該第1位置からの所定方向に所定量だけ離れ、且つ前記特定のn個の各局所領域内に存在するn個の第2位置との前記光軸方向の各位置偏差のn個を前記表面位置検出手段からの位置ずれ量に基づいて順次測定する表面偏差測定手段と;前記n個の位置偏差のうち、所定の許容範囲内のものをm個選択し、そのm個の位置偏差の平均値を算出する演算手段と;前記表面偏差測定手段による測定時に前記表面位置検出手段に設定されている前記基準面が前記算出された平均値だけ前記光軸方向に偏位するように、前記表面位置検出手段を補正する補正手段とを備え、該補正された状態のもとで前記合焦制御手段を作動させて、前記感光基板の各局所領域の露光時の焦点合わせを行なうことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開平1-161832
特開平4-023422
特開平2-198130

Cited by examiner (3)

特開平2-198130
特開平1-161832
特開平4-023422

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