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J-GLOBAL ID：200903067978974433

揮発性有機化合物の処理方法

Inventor： 関 廣二 ,  今村 哲夫 ,  佐々木 宏
Applicant, Patent owner： アタカ工業株式会社
Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993337298
Publication number (International publication number)：1995116467
Application date： Dec. 28, 1993
Publication date： May. 09, 1995
Summary：

【要約】【構成】 汚水13を抽出装置2に流入し、空気の散気により汚水13中の揮発性有機塩素化合物を揮発させ、照射槽1に流入させる。汚水13は曝気槽12に流入する。照射槽1の紫外線ランプを点灯させ第1次副生成物に分解する。照射槽1からの空気を、原水槽6内の水に、pH制御装置8にて中性に制御し攪拌手段にて攪拌しつつ散気装置7から散気し、易分解性の第2次副生成物を生成する。ほぼ中性で一定となった後、原水槽6内の水を、曝気槽12の上部に設けた吐出部14より吐出し、汚水13に流入する。汚水13と混合した水を、曝気装置17にて曝気しつつ曝気槽12内の充填層15を流過させ、好気性生物により浄化処理する。【効果】 紫外線照射が短時間で済み、第2次副生成物の生成後汚水13とともに好気性生物により浄化処理するので、容易で確実に効率よく安価に無害化できる。副生成物による汚染を防止でき、効率よく浄化処理できる。

Claim (excerpt)：

土中および水中の少なくともいずれか一方に含有される揮発性有機化合物を真空または曝気により抽出し、この抽出した前記揮発性有機化合物が含有される気体に酸素存在下で紫外線を照射して前記揮発性有機化合物を酸化し、この酸化により生成された第1次副生成物を含有する気体を水と接触させて易分解性の第2次副生成物を生成することを特徴とする揮発性有機化合物の処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭62-191095
  
• 特開平1-218676
  
• 特開平2-075391
  
• 特開平2-303598
  
• 特開平4-306551