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J-GLOBAL ID：200903067997630451
高周波加熱装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993173110
Publication number (International publication number)：1995027343
Application date： Jul. 13, 1993
Publication date： Jan. 27, 1995
Summary：
【要約】【目的】 ヒーターと高周波加熱で解凍を行ない出来映えの良い解凍加熱を行なうと共に安全性の高い高周波加熱装置を提供する。【構成】 ヒーター加熱に直接手に触れない構造とした管状ヒーター11および12を用い、解凍時には、高周波加熱シーケンスの中程に上記管状ヒーター11および12をONする。【効果】 均一度の高い解凍が出来ると共に、使用者が誤って、やけどなどの心配がないので安全性が高い。
Claim (excerpt)：
加熱室と、前記加熱室内に高周波エネルギーを供給する高周波発生装置と、前記加熱室上壁の外側に設けられた管状ヒーターと、前記管状ヒーターを覆うように設けた金属性反射板と、前記反射板に対向する加熱室上壁部はパンチング孔形状とし、前記加熱室底部にはターンテーブルとを有し、上記加熱室上壁パンチング部を加熱室の後寄りに設けると共に、高周波加熱と前記管状ヒーターによるヒーター加熱とで、解凍調理を行なう構成の高周波加熱装置。
IPC (3)：
F24C 7/02 531
, F24C 7/02 340
, H05B 11/00
