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J-GLOBAL ID：200903067999056680

基板加熱装置

Inventor： 赤崎 恒雄 ,  高野 径朗
Applicant, Patent owner： シグマメルテック株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994290383
Publication number (International publication number)：1996130182
Application date： Oct. 31, 1994
Publication date： May. 21, 1996
Summary：

【要約】【目的】 基板を均一に加熱しゴミが付着しない品質が高く高精度なパターンを実現する基板加熱装置を提供する。【構成】 ヒータを備えた下部熱板と排気口を備えた上部カバーと排気量調節手段と前記上部カバーを上下に駆動する手段とからなり、前記下部熱板または前記上部カバーにリング状通気溝と給気口を備えたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板を加熱する装置において、ヒータを備えた下部熱板と排気口を備えた上部カバーと排気量調節手段と前記上部カバーを上下に駆動する手段とからなり、前記下部熱板または前記上部カバーにリング状通気溝と給気口を備えたことを特徴とする基板加熱装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26

FI (2)：

H01L 21/30 567 ,  H01L 21/30 571