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J-GLOBAL ID:200903068014513840
低温エーロゾルの製造および制御による基材の処理
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萼 経夫 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1999503255
Publication number (International publication number):2002504016
Application date: Jun. 11, 1998
Publication date: Feb. 05, 2002
Summary:
【要約】基材に低温エーロゾルスプレーを衝突させることにより該基材を処理するための方法であって、上記低温エーロゾルスプレーは、ノズル下流で1種以上の寒剤からなる少なくとも実質的に固体のエーロゾル粒子を形成するように、上記1種以上の寒剤の加圧された液体または液体/気体流をノズルから基材との所定の距離をおいて処理チャンバー中に約1.6×104パスカル以下の圧力で膨張させることにより形成され、膨張および/または蒸発により生じる冷却により実質的に固体の粒子を含有するエーロゾルが形成される、上記方法。
Claim (excerpt):
基材に低温エーロゾルスプレーを衝突させることにより該基材を処理するための方法であって、上記低温エーロゾルスプレーは、ノズル下流で少なくとも1種の寒剤からなる少なくとも実質的に固体のエーロゾル粒子を形成するように、少なくとも1種の寒剤の加圧された液体または液体/気体流をノズルから処理チャンバー中に約1.6×104パスカル以下の圧力で膨張させることにより形成される、上記方法。
IPC (3):
B08B 5/02
, B08B 3/08
, H01L 21/304 643
FI (3):
B08B 5/02 Z
, B08B 3/08 A
, H01L 21/304 643 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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洗浄方法および洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-071777
Applicant:住友重機械工業株式会社
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特開平1-092071
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特開昭55-106538
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