Pat

J-GLOBAL ID：200903068017627340

閉ループ圧力洗浄システム及び方法

Inventor： マイケル ディー.ダムロン ,  エデュアルド エム.ガルシア ,  スコット エリアソン ,  ルドルフ ダブリュ.ドリスコル ジュニア
Applicant, Patent owner： イーズィー エンヴァイロメンタル ソリューションズ コーポレイション
Agent (1)： 恩田 博宣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998301383
Publication number (International publication number)：1999216435
Application date： Oct. 22, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】【課題】 携帯が可能で、安全に物体を洗浄すると共に、洗浄器への給水を制御して洗浄する物体から汚染物を回収する。【解決手段】 汚染物を回収する装置10の支持フロアは洗浄する物体及び同フロアの下方の槽14を支持する。槽14は清水室、水室、オイル閉込め室及び汚染水収容室等に分割される。収容室は物体の汚染物を除去すべく物体上へ流された汚染水を収容する。汚染水は収容室に収容された後、閉込め室及び水室を通過して清水室に至る。清水室は作動水位近傍の第1の流路により水室に、水室は槽の底近傍の第2の流路により閉込め室に各々連通される。閉込め室は作動水位近傍の第3の流路にて収容室に連通される。装置10は水室から水を汲み上げて濾過した後,水室へ戻すポンプを有する。

Claim (excerpt)：

汚染物を有した物体を洗浄し、汚染物を回収する閉ループ洗浄装置において、前記汚染物を除去するために前記物体に洗浄剤を流すようにされたフロー機構と、前記洗浄剤及び前記汚染物を受けて回収するように構成された水盤であって、前記フロー機構が前記水盤から前記洗浄剤を吸い上げて閉ループを形成する水盤と、前記洗浄剤を第1のインレットから前記水盤まで汲み上げ、且つ、前記洗浄剤を第1のアウトレットを介して前記水盤まで戻す第1のポンプとを備えていることを特徴とする閉ループ洗浄装置。

IPC (5)：

B08B 3/04 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/14 ,  C02F 1/78

FI (5)：

B08B 3/04 Z ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/14 ,  C02F 1/78