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J-GLOBAL ID：200903068020265034

スパッタターゲットおよびその製造法

Inventor： マーティン シュロット ,  マーティン クッツナー ,  ヴォルフガング ダウト
Applicant, Patent owner： ライボルト マテリアルス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998100966
Publication number (International publication number)：1998324968
Application date： Apr. 13, 1998
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：

【要約】【課題】 理論的密度の少なくとも90%の密度を有するターゲットプレートの粉末冶金的製造法。【解決手段】 ZnSとSiO2とを湿式混合し、乾燥させ、熱プレスし、かつ緩徐に冷却してターゲットプレートを製造する。【効果】 亀裂がなく、理論的密度の90%の密度を有し、99%の純度のZnSを含有するスパッタターゲットが得られる。

Claim (excerpt)：

陰極スパッタの際に使用するためのZnS少なくとも70モル%および場合により他の添加剤を有するスパッタターゲットにおいて、該ターゲットがその理論的密度の少なくとも90%の密度を有し、かつ主として閃亜鉛鉱変性剤中に可撓性のZnSを含有していることを特徴とする、スパッタターゲット。

IPC (3)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/547 ,  C23C 14/06

FI (4)：

C23C 14/34 A ,  C23C 14/06 D ,  C23C 14/06 L ,  C04B 35/00 T