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J-GLOBAL ID:200903068025749226

光断層像計測装置および計測方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 中尾 俊輔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999356115
Publication number (International publication number):2001174404
Application date: Dec. 15, 1999
Publication date: Jun. 29, 2001
Summary:
【要約】【課題】 被計測物に照射されて反射された信号光と参照光反射鏡によって反射された参照光との干渉光の電気信号に含まれる雑音を除去することによって電気信号のダイナミックレンジを向上させることができ、虚像のない光断層像の計測を迅速かつ高感度に行うことができる光断層像計測装置および光断層像計測方法を提供すること。【解決手段】 波長分散手段41によって各波長ごとに分散され検出手段43によって検出された干渉光の電気信号に含まれる雑音を除去する雑音除去手段45を設けたこと。
Claim (excerpt):
光源から輻射された光を参照光と被計測物に照射する信号光とに分光する分光手段を設け、前記参照光を少なくともその伝搬時間を変調して前記分光手段側に反射させる参照光反射鏡を設け、前記被計測物に照射されて前記分光手段側に反射された信号光と前記参照光反射鏡によって反射された参照光との干渉光を波長ごとに分散する波長分散手段を設け、この波長分散手段によって分散された干渉光を各波長ごとの電気信号に変換して検出する検出手段を設け、この検出手段によって検出された干渉光の電気信号に基づいて前記被計測物の各被計測部位の光反射率を演算する反射率演算部およびこの反射率演算部が演算した被計測物の光反射率のデータに基づいて前記被計測物の断層像を得る画像処理部を設けた光断層像計測装置において、前記波長分散手段によって各波長ごとに分散され前記検出手段によって検出された前記干渉光の電気信号に含まれる雑音を除去する雑音除去手段を設けたことを特徴とする光断層像計測装置。
IPC (3):
G01N 21/17 620 ,  A61B 3/10 ,  G01B 11/24
FI (3):
G01N 21/17 620 ,  A61B 3/10 Z ,  G01B 11/24 D
F-Term (54):
2F065AA51 ,  2F065BB05 ,  2F065CC16 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF51 ,  2F065GG07 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL04 ,  2F065LL08 ,  2F065LL12 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065LL67 ,  2F065NN08 ,  2F065PP02 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ42 ,  2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059DD13 ,  2G059EE01 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF08 ,  2G059GG06 ,  2G059GG10 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ06 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ30 ,  2G059KK01 ,  2G059KK04 ,  2G059MM03 ,  2G059MM08 ,  2G059NN01 ,  2G059PP04

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