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J-GLOBAL ID：200903068035438938

ポリスチレン分離方法及び装置

Inventor： 太田 正司 ,  島田 祥生 ,  太田 強 ,  岡崎 本芳 ,  鈴木 保之 ,  佐藤 隆治 ,  天野 俊二 ,  小林 富士雄 ,  野口 勉
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994223009
Publication number (International publication number)：1996085733
Application date： Sep. 19, 1994
Publication date： Apr. 02, 1996
Summary：

【要約】【目的】 使用済みの発泡ポリスチレンを再生する際に、処理後回収されるポリスチレン及び溶剤が酸化による品質の劣化を伴わない。【構成】 ポリスチレンタンク1内部の所定位置にて加熱ドラム2の回転軸が固定され、加熱ドラム2の回転軸に平行な方向で表面に沿うようにスクレーパ3が設置される。また、ポリスチレンタンク1外部の任意位置に、使用済みの発泡ポリスチレンを有機溶媒に溶解させたポリスチレン溶液を溜めておくポリスチレン溶液タンク4が配置される。さらに、上記ポリスチレン溶液は、ポリスチレン溶液タンク4から溶液供給管6を介して、高圧ポンプ5に送られ加圧され、溶液噴射管7a、7b、7cを介して、加熱ドラム2表面上部分に噴射される。スクレーパ3下方に窒素供給管8が、加熱ドラム2上方に、ガス排出管9が設置される。このガス排出管9に、排出するための逆流防止バルブ10が設置される。

Claim (excerpt)：

発泡ポリスチレンが溶媒で溶解されたポリスチレン溶液に、不活性ガス雰囲気下で上記ポリスチレン溶液を加熱手段に噴射させる工程と、上記加熱手段に噴射された上記溶媒を加熱して気化させる気化工程と、上記気化工程で上記ポリスチレン溶液から溶媒が気化して残留したポリスチレンを取り出す工程とを有することを特徴とするポリスチレン分離方法。

IPC (4)：

C08J 11/08 CET ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 ,  C08L 25:04

FI (2)：

B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 304 P