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J-GLOBAL ID：200903068063988676

シラン化合物及びその製造方法

Inventor：
山田 渉

About 山田 渉

, 
額田 克己

About 額田 克己

, 
岩崎 真宏

About 岩崎 真宏


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 中島 淳 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997121256
Publication number (International publication number)：1998095787
Application date： May. 12, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：
【要約】【課題】 有機電子デバイスに応用可能なように、溶解性、成膜性に優れ、強固な膜を形成する化合物を提供する。【解決手段】 下記一般式(I)で表されるシラン化合物。【化1】[式中、Ar1 〜Ar4 はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ar5 は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つAr1〜Ar5 のうち1〜4個は、-CH=N-Y-SiR1 3-a (OR2 )a で示される置換基を有し、R1 は水素、アルキル基、置換又は未置換のアリール基を示し、R2 は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を示し、aは1〜3の整数を示し、Yは2価の基を示し、kは0又は1を示す]
Claim (excerpt)：
下記一般式(I)で表されるシラン化合物。【化1】[式中、Ar1 〜Ar4 はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ar5 は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つAr1〜Ar5 のうち1〜4個は、-CH=N-Y-SiR1 3-a (OR2 )a で示される置換基を有し、R1 は水素、アルキル基、置換又は未置換のアリール基を示し、R2 は水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を示し、aは1〜3の整数を示し、Yは2価の基を示し、kは0又は1を示す]
IPC (9)：
C07F 7/18 ,  G03G 5/06 312 ,  G03G 5/06 314 ,  G03G 5/06 ,  G03G 5/06 315 ,  G03G 5/147 502 ,  C07B 61/00 300 ,  C09K 11/06 ,  H05B 33/22
FI (10)：
C07F 7/18 P ,  G03G 5/06 312 ,  G03G 5/06 314 A ,  G03G 5/06 314 B ,  G03G 5/06 314 Z ,  G03G 5/06 315 C ,  G03G 5/147 502 ,  C07B 61/00 300 ,  C09K 11/06 Z ,  H05B 33/22
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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