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J-GLOBAL ID：200903068070824867

荷電粒子線照射装置

Inventor： 菅沼 忠雄
Applicant, Patent owner： 株式会社ビームテック
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993156020
Publication number (International publication number)：1994333525
Application date： May. 21, 1993
Publication date： Dec. 02, 1994
Summary：

【要約】〔目的〕荷電粒子線源を収容するチャンバーやアパーチャ等に粒子線が衝突することを防ぎ、チャンバーへのガスの流入を減少させ、その結果、線源へのガスの吸着やイオンのアタック等を減らし、線源の性能と寿命を改善する。〔構成〕荷電粒子線源と、荷電粒子線源を収容するチャンバーと、チャンバーを排気する排気装置とを設け、チャンバーの出口に最初のアパーチャを設け、荷電粒子線の焦点をアパーチャの面に結ばせるレンズを設ける。

Claim (excerpt)：

〔請求項1〕 荷電粒子線源と、荷電粒子線源を収容するチャンバーと、チャンバーを排気する排気装置とを設け、チャンバーの出口に最初のアパーチャを設け、荷電粒子線の焦点をアパーチャの面に結ばせるレンズを設けた事を特徴とする荷電粒子線照射装置。〔請求項2〕 アパーチャ面における荷電粒子線の焦点の位置を調節する手段と、アパーチャに吸収された電流を検出する手段とを設けた、請求項1記載の荷電粒子線照射装置。

IPC (4)：

H01J 37/141 ,  H01J 37/04 ,  H01J 37/06 ,  H01J 37/09