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J-GLOBAL ID：200903068076637244

プラズマ処理装置

Inventor： 本多 茂樹 ,  吉田 武史
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 河野 登夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997257329
Publication number (International publication number)：1999097424
Application date： Sep. 22, 1997
Publication date： Apr. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 反応室内に発生するプラズマの密度を均一にする。【解決手段】 誘電体線路5と所定間隔を有してその下側にマイクロ波導入窓6が対向配置されている。マイクロ波導入窓6により、反応容器1の内側に形成される反応室10が封止されている。マイクロ波導入窓6は板状を有する窓本体とその上面中央に載置された厚み調整板6aとで構成されており、いずれも石英ガラスを用いて形成されている。厚み調整板6aは断面が矩形状の円環形状を有しており、試料Sのエッチングレートが最も高い領域に対向する位置に載置されている。

Claim (excerpt)：

導波管を経て供給されたマイクロ波が誘電体線路を伝搬し、該誘電体線路と空間を隔てて対向配置されたマイクロ波導入窓を介して反応室に導入され、該反応室内にプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、前記マイクロ波導入窓は、その面内方向で厚みを異ならせるための導入窓厚み調整部を前記空間側に設けてあることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• プラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-039498   Applicant：住友金属工業株式会社
• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-223259   Applicant：住友金属工業株式会社
• マイクロ波導入装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-268883   Applicant：住友金属工業株式会社