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J-GLOBAL ID：200903068082408567

レジストの剥離方法

Inventor： 高畑 忠雄 ,  石塚 義次 ,  柳原 和明 ,  田中 昌利 ,  近藤 圭英 ,  久保田 吉勝
Applicant, Patent owner： 旭電化工業株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992228724
Publication number (International publication number)：1994073562
Application date： Aug. 27, 1992
Publication date： Mar. 15, 1994
Summary：

【要約】【構成】 エッチング又はメッキ後のレジスト剥離工程において、剥離液として下式の水溶性アミン及び/又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液を使用するにあたりpHを測定し、この測定結果に基づき上記の水溶液の供給を行い、常に液組成を一定にすることを特徴とするレジストの連続剥離方法。【化3】【効果】 メッキレジスト、エッチングレジストの剥離処理を連続して均一に行うことが出来る。又、長時間金属表面と接触してもアルカリ焼けを引き起こさず、更にアルミニウムをほとんど腐食しない為従来不可能とされていたアルミニウム基板の水溶性レジスト剥離に最適である。

Claim (excerpt)：

エッチング又はメッキ後のレジスト剥離工程において、剥離液として下式の水溶性アミン及び/又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシドの水溶液を使用するにあたりpHを測定し、この測定結果に基づき上記の水溶液を供給することを特徴とするレジストの連続剥離方法。【化1】(式中、R は水素、メチル基、ヒドロキシエチル基又はヒドロキシプロピル基を表し、それぞれ同一の基又は異なる基であっても良く、R'はエチレン基を表し、nは0〜3の値である)

IPC (5)：

C23F 1/00 104 ,  C23C 18/16 ,  C25D 5/02 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18