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J-GLOBAL ID：200903068121312742

レジスト組成物およびパターン形成方法

Inventor： 五十嵐 美和 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  野崎 耕司 ,  倉光 庸子
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 石田 敬 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994149459
Publication number (International publication number)：1995120924
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 解像性に優れたレジスト組成物を提供する。【構成】 基材樹脂、架橋剤および酸発生剤からなる化学増幅系ネガ型レジスト組成物であって、基材樹脂の重量平均分子量が2000〜5000であり、分散度が1.3以下である組成物。

Claim (excerpt)：

基材樹脂、架橋剤および酸発生剤からなる化学増幅系ネガ型レジスト組成物であって、基材樹脂の重量平均分子量が2000〜5000であり、分散度が1.3以下であることを特徴とするレジスト組成物。

IPC (5)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F