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J-GLOBAL ID：200903068159136921

プラズマ処理装置

Inventor： 深田 武 ,  坂間 光範
Applicant, Patent owner： 株式会社半導体エネルギー研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992297652
Publication number (International publication number)：1994124898
Application date： Oct. 09, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 均一な処理が可能なプラズマ処理装置を提案する。【構成】 減圧状態に保持可能な反応容器と、前記反応容器に気体を供給する手段と一対の対向する電力供給用電極対と前記対向する電極と平行でない位置に少なくとも1つの電極を有するプラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

減圧状態に保持可能な反応容器と、前記反応容器に気体を供給する手段と一対の対向する電力供給用電極と前記対向する電極と平行でない位置に少なくとも1つの電極を有するプラズマ処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• プラズマ気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-238529   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平4-056215
  
• 特開平2-179878