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J-GLOBAL ID：200903068167286452
高周波イオンプレーティング装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991190411
Publication number (International publication number)：1993320884
Application date： Jul. 30, 1991
Publication date： Dec. 07, 1993
Summary：
【要約】【構成】 高周波励起イオン化機構を有するイオンプレーティング装置において、高周波励起用コイルとして冷却水流通閉ループ構造を配設する。【効果】 1KW以上の大出力の高周波電力を投入することが容易となり、大型量産装置での高品質、高効率な成膜が可能となる。
Claim (excerpt)：
高周波励起イオン化機構を有するイオンプレーティング装置において、高周波励起用コイルとして冷却水流通閉ループ構造を配設してなることを特徴とする高周波イオンプレーティング装置。
Patent cited by the Patent：
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