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J-GLOBAL ID：200903068173986628

シリカゲルの表面改質方法、および吸着材

Inventor： 伊藤 睦弘 ,  浅野 達也 ,  鈴木 正和
Applicant, Patent owner： 富士シリシア化学株式会社
Agent (1)： 足立 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002026778
Publication number (International publication number)：2003226517
Application date： Feb. 04, 2002
Publication date： Aug. 12, 2003
Summary：

【要約】【課題】 シリカゲルの細孔構造を壊すことなく、シリカゲル表面を有機化合物の吸着に好適な特性に改質可能なシリカゲルの表面改質方法と、その表面改質方法によって有機化合物についての吸着特性を改善した吸着材を提供すること。【解決手段】 B型シリカゲルを設置した測定装置内に絶対湿度0.05g/kgの除湿空気を導入しながら、180°Cで2時間加熱して、シリカゲルから表面吸着水を除去した。その後、測定装置内において0.067kPaで真空引きを行い、シクロヘキサン蒸気を吸着平衡となるまで吸着させた。さらに、測定装置内において0.067kPaで真空引きを行うことにより、シクロヘキサンが不可逆的に吸着されている表面改質シリカゲルを得た。この表面改質シリカゲルは、高温で焼成処理を施したシリカゲルに比べ、シクロヘキサンに対する吸着特性に優れたものであった。

Claim (excerpt)：

雰囲気が0°C以上300°C未満かつ各温度の相対湿度が1%以下に制御された環境下でシリカゲルの吸着水を除去し、その後、前記シリカゲルと有機化合物とを接触させることにより、前記シリカゲルの表面に前記有機化合物を吸着させて、前記シリカゲルの表面を前記有機化合物の吸着に好適な特性に改質することを特徴とするシリカゲルの表面改質方法。

IPC (4)：

C01B 33/159 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/28 ,  B01J 20/30

FI (4)：

C01B 33/159 ,  B01J 20/10 D ,  B01J 20/28 Z ,  B01J 20/30

F-Term (24)：

4G066AA22B ,  4G066BA23 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066CA25 ,  4G066CA27 ,  4G066CA32 ,  4G066CA33 ,  4G066CA51 ,  4G066CA52 ,  4G066CA56 ,  4G066FA21 ,  4G066FA37 ,  4G072AA28 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072LL02 ,  4G072LL04 ,  4G072LL05 ,  4G072MM35 ,  4G072QQ06 ,  4G072RR07 ,  4G072UU11