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J-GLOBAL ID：200903068180910211

超高真空用永久磁石およびその製造方法

Inventor： 菊井 文秋 ,  鈴木 雅子 ,  吉村 公志
Applicant, Patent owner： 住友特殊金属株式会社
Agent (1)： 押田 良久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996281542
Publication number (International publication number)：1998106815
Application date： Oct. 01, 1996
Publication date： Apr. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】 被膜の密着性に優れ、緻密で、磁石体からのガス発生、放出を防止でき、1×10-9Pa以下の超高真空雰囲気のアンジュレーター等に使用可能な高磁気特性を有した超高真空用永久磁石の提供。【解決手段】 Fe-B-R系永久磁石体表面をイオンスパッター法等により清浄化した後、前記磁石体表面にイオンプレーティング法等の薄膜形成法によりTi被膜を形成後、このTi被膜上にイオンプレーティング等の薄膜形成法によりAl被膜を形成し、さらにAl被膜上にN2含有ガス中にてイオン反応プレーティング等の薄膜形成法を行って、Ti1-xAlxN被膜を形成することにより、磁石に付着あるいは吸蔵するガスの発生を防止することができ、磁石の有する高磁気特性を有効に利用できる。

Claim (excerpt)：

主相が正方晶相からなるFe-B-R系永久磁石体表面に形成された膜厚0.1μm〜3.0μmのTi被膜上に、膜厚0.1μm〜5μmのAl被膜を介して膜厚0.5μm〜10μmのTi<SB>1-x</SB>Al<SB>x</SB>N(但し、0.03<x<0.70)被膜層を有する超高真空用永久磁石。

IPC (5)：

H01F 1/04 ,  C22C 38/00 303 ,  C23C 14/06 ,  H01F 7/02 ,  H01F 41/02

FI (5)：

H01F 1/04 ,  C22C 38/00 303 D ,  C23C 14/06 A ,  H01F 7/02 Z ,  H01F 41/02 G