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J-GLOBAL ID：200903068223432122

結晶の熱処理方法及びその装置

Inventor： 沢田 真一
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996106961
Publication number (International publication number)：1997295899
Application date： Apr. 26, 1996
Publication date： Nov. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 熱処理する円柱状結晶の半径方向の温度分布を均一にし、かつ、円柱状結晶の端部近傍における温度分布を均一にして、熱処理後の結晶内の特性を均一にする熱処理方法及びその装置を提供しようとするものである。【解決手段】 縦型加熱炉の中で、円柱状結晶を熱処理する方法において、前記結晶の上端及び/又は下端に熱移動調節体を接触させて前記結晶端部からの熱移動を調節することを特徴とする結晶の熱処理方法である。

Claim (excerpt)：

縦型加熱炉の中で、円柱状結晶を熱処理する方法において、前記結晶の上端及び/又は下端に熱移動調節体を接触させて前記結晶端部からの熱移動を調節することを特徴とする結晶の熱処理方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特公昭51-001679
  
• 特開昭59-227799
  
• 特開平3-060500
  

Cited by examiner (4)

• 特公昭51-001679
  
• 特公昭51-001679
  
• 特開昭59-227799
  
• 特開平3-060500