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J-GLOBAL ID：200903068229263691

レーザビーム照射光学系及びレーザ装置

Inventor：
石橋 誠

About 石橋 誠

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城戸 剛

About 城戸 剛


Applicant, Patent owner：
レーザー濃縮技術研究組合

About レーザー濃縮技術研究組合

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株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998077640
Publication number (International publication number)：1999274618
Application date： Mar. 25, 1998
Publication date： Oct. 08, 1999
Summary：
【要約】【課題】本発明は、被照射体に対して大出力な線状のレーザビームを均一な強度分布で照射する。【解決手段】銅蒸気レーザ1から出力されたレーザビームを光ファイバー束3a、3b、3cにより伝送して集光光学系5に入射し、この集光光学系5において結像光学系f1 、f2 によりY軸方向においてファイバー束3a、3b、3cの各レーザ出射端面4a、4b、4cの像を色素フローセル6に流れる色素溶液上に結像し、かつケーラー照明光学系f3 によりX軸方向においてファイバー束3a、3b、3cの各レーザ出射端面4a、4b、4cの像を色素フローセル6に対して線状に均一にケーラー照射する。
Claim (excerpt)：
複数の点状の照射面を持つレーザビームを被照射体に対して線状に変換して照射するレーザビーム照射光学系において、前記複数のレーザビームを出射する一次元的に配置された複数のレーザ出射端面と、これらレーザ出射端面から出射された前記複数のレーザビームを前記被照射体に、前記レーザ出射端面の配列方向の垂直方向に対しては結像し、前記レーザ出射端面の配列方向に対しては線状に均一に照射する集光光学系と、を具備したことを特徴とするレーザビーム照射光学系。
IPC (3)：
H01S 3/094 ,  B23K 26/06 ,  H01S 3/20
FI (3)：
H01S 3/094 Z ,  B23K 26/06 A ,  H01S 3/20 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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