シリル化合物の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大石治仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001323538
Publication number (International publication number)：2003128680
Application date： Oct. 22, 2001
Publication date： May. 08, 2003
Summary：

【要約】【課題】シリル化反応における過剰分又は未反応分のシリル化剤が分解したシラノール化合物や、脱シリル化反応の副生物であるシラノール化合物を再利用するシリル化合物の製造方法を提供する。【解決手段】式(1):R1R2R3SiOH(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルケニル基、炭素数1〜20のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるシラノール化合物と、式(2):X-OH(式中、Xは有機基を表す。)で表される化合物とを、触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、式(3):R1R2R3SiO-X(式中、R1、R2、R3及びXは前記と同じ意味を表す。)で表されるシリル化合物の製造方法。

Claim (excerpt)：

式(1):R1R2R3SiOH(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜20のアルケニル基、炭素数1〜20のアルキニル基又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。)で表されるシラノール化合物と、式(2):X-OH(式中、Xは有機基を表す。)で表される化合物とを、触媒の存在下に脱水反応させることを特徴とする、式(3):R1R2R3SiO-X(式中、R1、R2、R3及びXは前記と同じ意味を表す。)で表されるシリル化合物の製造方法。

IPC (2)：

C07F 7/18 , C07B 61/00 300

FI (5)：

C07F 7/18 D , C07F 7/18 E , C07F 7/18 J , C07F 7/18 Q , C07B 61/00 300

F-Term (13)：

4H039CA92 , 4H039CD10 , 4H039CD30 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VQ21 , 4H049VR23 , 4H049VR41 , 4H049VS18 , 4H049VT37 , 4H049VT38 , 4H049VT50 , 4H049VW02

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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