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J-GLOBAL ID：200903068275644446

ベーク装置

Inventor： 工藤 勝彦 ,  熊澤 博嗣 ,  藤山 重美 ,  佐合 宏仁 ,  川上 和志
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社 ,  タツモ株式会社
Agent (1)： 下田 容一郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992148067
Publication number (International publication number)：1993326532
Application date： May. 15, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 ベーク装置の熱効率を高め且つ均一処理を可能とする。【構成】 蓋体34下面の反射板37とホットプレート12の間のパージ空間でベーク処理を行なう。この場合、昇降プレート25を上昇させ、搬送装置16の支持ロッド20からエジェクタピン31で板状被処理物Wを受け取り、エジェクタピン31で板状被処理物Wの下面を支え、ホットプレート12との間に所定の隙間を形成した状態で行なう。そして、1つのホットプレート12におけるベーク処理が終了したら、昇降プレート25を下げ、再び板状被処理物Wを搬送装置16の支持ロッド20上に載置し、この状態で搬送装置により隣のホットプレート12上に板状被処理物Wを移す。

Claim (excerpt)：

搬送機構によって板状被処理物をホットプレート上に載置して加熱するようにしたベーク装置において、このベーク装置はホットプレート上方にパージ室を形成する蓋体を設け、この蓋体の裏面には閉じた状態でホットプレートと対向する反射板を取り付けたことを特徴とするベーク装置。

IPC (3)：

H01L 21/324 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平3-270012
  
• 特開平4-142027
  
• 特開平2-003909
  
• 特開昭62-062522