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J-GLOBAL ID：200903068294717608

レジストの剥離液及び剥離方法

Inventor： 佐通 祐一 ,  赤星 晴夫 ,  諏訪 時人 ,  吉村 豊房 ,  宮崎 政志 ,  富田 俊成
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995173191
Publication number (International publication number)：1997022122
Application date： Jul. 10, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【構成】フォトレジストを一種類以上の非ハロゲン系有機溶剤を含有する剥離液を用いて剥離する方法において、剥離液がぎ酸,酢酸,プロピオン酸,ジメチルホルムアミド,N-メチル-2-ピロリドン,フルフリルアルコールの内少なくとも一種類を含むレジスト剥離液を用いる剥離法。【効果】従来から用いられている塩化メチレンと同等又はそれ以上のレジストの剥離能力を有する。

Claim (excerpt)：

非ハロゲン系有機溶剤を含有するレジストの剥離液において、前記剥離液が、ぎ酸,酢酸,プロピオン酸,ジメチルホルムアミド,N-メチル-2-ピロリドン,フルフリルアルコールの少なくとも一種類を含むことを特徴とするレジスト剥離液。

IPC (3)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/34 ,  H05K 3/26

FI (3)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/34 ,  H05K 3/26 E