Pat
J-GLOBAL ID:200903068295409150
排気ガス浄化用触媒及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996030556
Publication number (International publication number):1996290063
Application date: Feb. 19, 1996
Publication date: Nov. 05, 1996
Summary:
【要約】【課題】 排気ガス中の毒性物質による被毒に起因する早期劣化を防止することができる排気ガス浄化性能の高い排気ガス浄化用触媒を得る。【解決手段】 排気ガス浄化用触媒3においては、ハニカム担体4上に、パラジウムがランタン含浸アルミナに担持されてなる下側触媒層5が形成され、この下側触媒層5の上にさらにロジウムがランタン含浸アルミナに担持されてなる上側触媒層6が形成されている。ここで、下側触媒層5には酸化ニッケル粉末が添加されている。そして、この下側触媒層5においては、酸化ニッケルによって硫化水素等の毒性物質によるパラジウムの被毒が防止ないしは抑制され、排気ガス浄化用触媒3の早期劣化が防止されるとともに排気ガス浄化性能が高められる。
Claim (excerpt):
担体上に、複数の触媒層が層状に形成されている排気ガス浄化用触媒において、最上層の触媒層よりも下層側に位置している所定の触媒層が酸化ニッケルとパラジウムとを含んでいることを特徴とする排気ガス浄化用触媒。
IPC (4):
B01J 35/04 301
, B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/94
, B01J 23/89 ZAB
FI (5):
B01J 35/04 301 L
, B01J 23/89 ZAB A
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102 B
, B01D 53/36 104 A
Patent cited by the Patent: