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J-GLOBAL ID：200903068336656361
露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994309709
Publication number (International publication number)：1996148420
Application date： Nov. 19, 1994
Publication date： Jun. 07, 1996
Summary：
【要約】【目的】 照度を上げることなく、かつ露光時間を短縮して、露光処理を行えるようにした露光装置を提供する。【構成】 周辺部に平坦状のオリフラWaを有する半導体ウエハWと、光照射手段40とを、相対的に移動させて、半導体ウエハWの周辺部を所定の幅に渡って露光可能に形成する。光照射手段40のマスク45形状に、半導体ウエハWの中心側の周縁部Wbに接する内側辺46と、この内側辺46の端部から外向きに所定角度θで拡開する傾斜辺47とを具備する。これにより、半導体ウエハWの円形部及びオリフラWa部の周辺部に十分かつ均一な露光量のUV光を照射することができ、露光不良によるレジスト残り等を防止すると共に、オリフラWa部における“だれ幅”を除去して不要レジストをシャープに除去することができる。
Claim (excerpt)：
被処理体と、光照射手段とを、相対的に移動させて、上記被処理体の周辺部を所定の幅に渡って露光する露光装置において、上記光照射手段の光照射形状が、上記被処理体の周辺部に位置する内側辺と、この内側辺の端部から外向きに所定角度で拡開する傾斜辺とを、具備することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
