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J-GLOBAL ID：200903068353222910

レーザプラズマX線発生装置およびその発生方法

Inventor： 川村 朋晃 ,  林 孝好 ,  ジョン ジャック ドロネー ,  竹中 久貴
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996116069
Publication number (International publication number)：1997306693
Application date： May. 10, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 レーザ光の照射時にターゲット表面にキーホールが発生することを抑制し、かつ、デブリの発生を抑制するレーザプラズマX線発生装置およびその発生方法を提供する。【解決手段】 プラズマ発生用のターゲット6を冷却伝導板7を介して冷媒9によって冷却してプラズマ発生用ガス2をターゲット6の表面に吸着させる。その結果、ターゲット6の表面に固体または液体のガス吸着層5を形成する。

Claim (excerpt)：

レーザ光をターゲットの物質に照射することにより発生したプラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線発生装置において、ターゲットを冷却する冷却手段と、ターゲットを内部に設置して真空排気可能なプラズマ発生室と、プラズマ発生室へプラズマ発生用の気体またはプラズマ発生用の液体を導入する手段とを備え、ターゲットを冷却することによりターゲットの表面にプラズマ発生用の気体またはプラズマ発生用の液体を吸着させてガス吸着層を形成することを特徴とするレーザプラズマX線発生装置。

IPC (3)：

H05G 2/00 ,  H05G 1/02 ,  H05H 1/24

FI (3)：

H05G 1/00 K ,  H05G 1/02 P ,  H05H 1/24