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J-GLOBAL ID：200903068368829322

加熱装置

Inventor： 野田 周一 ,  笠井 政範
Applicant, Patent owner： 沖電気工業株式会社
Agent (1)： 清水 守 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995132002
Publication number (International publication number)：1996330208
Application date： May. 30, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：

【要約】【目的】 均一なベークを行うと共に、処理時間の短縮を図り、安定した基板のベークを行うことができるホットプレートを有する加熱装置を提供する。【構成】 X線マスク4の加熱源として、このX線マスク4を載置して加熱を行うホットプレート5と、このホットプレート5を貫通して空間部3に連通するHe導入管9を配設し、このHe導入管9を介して加熱ガス流により空間部3を加熱する加熱ガス手段を備え、ホットプレート5と前記加熱ガス手段により、空間部3を有するX線マスク4を加熱する。

Claim (excerpt)：

裏面に空間部を有する基板を加熱する加熱装置において、(a)前記基板の加熱源として該基板を載置して加熱を行うホットプレートと、(b)該ホットプレートを貫通して前記空間部に連通する管を配設し、該管を介して加熱ガス流により前記空間部を加熱する加熱ガス手段を備え、(c)前記ホットプレートと前記加熱ガス手段により、前記空間部を有する基板を加熱するようにしたことを特徴とする加熱装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/68

FI (5)：

H01L 21/30 567 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 566